不過我們要做要的是正確認知自己，真正做到知恥而後勇！

相信在未來的不久，我們一定可以追上所有國家的科技，把他們遠遠甩在後邊，成為最強的科技國家，掌握最先進的技術，生產最先進的儀器裝置。

萬國來朝！

一片繁榮的景象！

大家都知道晶片是在矽晶圓片上製作的，我們拿著製作好的矽晶圓片在上邊塗抹上光刻膠。

在光刻膠的上方會有一個掩膜，光刻機釋放出來的紫外光線透過掩膜照射到光刻膠上。

在掩膜上邊印有預先已經設計好的電路線圖。

光刻機的作用就是透過掩膜的縫隙，融化下邊的光刻膠，使得光刻膠形成了和電路線圖一模一樣的圖案。

聽起來是十分的簡單，但是……它的精度是奈米級別的，直接說奈米級別的不容易讓人理解，人們也不容易想象出來奈米級別的到底有多小。

那就打個比方吧，頭髮絲大家都知道，奈米級別的就是一根頭髮絲的五千分之一這麼細！

就是這麼細！

而光刻機的鏡頭誤差不能超過兩奈米！

不僅僅鏡頭的精度要求高，還有機械精度要求也是非常高，奈米級別的，誤差同樣不能超過2奈米！

這裡說的機械精度就是指光刻機的兩個同步工作臺，一個是盛放底片的，也就是矽圓片，一個是放掩膜的，兩個要同步移動！

當然了精密高僅僅是光刻機的第一個要求，還有著其他要求，比如光源問題！

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