這種DNA加工奈米圖形的方法叫做DNA投影奈米印刷術，也可以叫做DNA模板印刷術。

這種方法可以利用DNA為模板來定義基片圖案。

原理是把DNA在基片上排列整齊，再在上面沉積一層金屬膜。

DNA分子起奈米蠟紙的作用，這樣來便在基片上定義了一些小於10奈米的圖案。由於金屬膜以一定角度沉積，DNA分子的投影便定義了基片上的圖案。

接下來再使用等離子體刻蝕機對圖案表面進行刻蝕，便可以在基片上便可得到奈米尺寸的溝槽。

這樣就正好繞開了光刻步驟！

光刻機在晶片生產中很重要，但是它的作用其實很簡單。

光刻機在晶片生產中的作用就是透過光源與基片上面的光刻膠發生反應，使得照射部分的光刻膠變質，易於腐蝕，從而在光刻膠上面“畫”出電路圖案。

接下來便可以把變質部分的光刻膠腐蝕掉，然後再對晶圓本身進行腐蝕，從而形成半導體器件及其電路。

也就是說光刻機起到的只是一個定位的作用，真正的電路形成還是得看刻蝕！

而現在這個定位的作用可以由DNA模板來完成！

如果按照這種技術思路走下去，那未來的碳基晶片製備就是走化生的方式，完全是從各種溶液裡面泡出來。

因為除了碳奈米管，類似像金屬，氧化物等奈米材料也可以用DNA工具進行生長，搭建，組裝。

由此可見直接從溶液裡面把碳奈米電晶體泡出來，再組裝到晶片上來的情況也不是不可能。

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