“當前的行業現狀是，193奈米液浸式光刻機系統是最為成熟的技術，在精確度以及成本上做到了一個近乎完美的平衡，短時間內很難被取代，但終究也是要被取代的，就是極紫外光刻機技術。”

安靜的會議大廳裡，羅晟有條不紊的說道：“這樣做的風險是很高，但是不可否認的是半導體業的發展也的的確確到了一個新的轉折點，摩爾定律正在面臨巨大的挑戰，沒有人能夠確定去年總產值3000億美元的半導體產業將如何引導未來5年或10年內的發展。”

“也無人能夠知曉‘後摩爾定律’時代的半導體行業未來會是什麼樣子。”說到這裡羅晟心中補充了一句“除了我”，停頓了片刻繼續說道：

“利潤的下降也可能是無法避免的，但是如果摩爾定律能夠有效的避免半導體業營業額的下降，即便只有15%，其現金流也仍然是整個美國遊戲產業營業額的兩倍。”

朱昱下意識的點點頭，在羅晟停頓的時候發言道：“光刻、蝕刻系統製造的精細程度取決於很多因素，但是能實現跨越性進步的有效方法是降低使用光源的波長。幾十年來，光刻機廠商就是這麼做的，把晶圓曝光工具從人眼可見的藍光端開始逐漸減少波長，一直到光譜上的紫外端……”

羅晟繼續說道：“摩爾定律的終點已經被大家預見到了，半導體行業也一直都在尋找方法來保持技術革新和進步，全球的領先晶片製造廠商們也在努力改進技術，即：將晶片從光刻機中加工取出後再放入其中，並在原來的位置精準的印刷出下一層影象，EUV是較為不同的一個。”

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