---光刻機---

光刻機的角雕刻精度，可以設計在1毫米位置就會以1度夾角相撞的鐳射雕刻，然後分別在和雕刻光鏡頭距離1米的位置，各放一個被雕刻材料，研究光在真空中的對撞，是否會導致光的頻率或方向有變化，也可以用很多個雕刻光鏡頭都在1毫米半徑的球面上，都距離球心只有1毫米，也是研究光在真空中的對撞，是否會導致光的頻率或方向有變化。

然後就是設計各種自轉和公轉的釹磁鐵，研究其在真空環境中從光附近掠過時，對光的頻率方向的變動。

使用平行距離只有1毫米的三點陣鐳射雕刻機（然後慢慢研究邊長越來越短的鐳射雕刻機，到最後設計出1奈米間隔的三點陣鐳射雕刻機），研究其在正四面體的三個面上進行雕刻的方法，包括三個鐳射都在一個面上列印的時候，三點陣鐳射雕刻機，在雕刻平行線，雕刻畫圓，雕刻畫波浪線方面有優勢。

為了提高鐳射雕刻機的方向和速度的精度，可以使用各種曲面反光鏡，然後在特定被反射照射面上進行雕刻，從而得知其精度和時間的控制程度。

研究爆炸破冰鐳射雕刻機，也就是用一部分的液態惰性氣體保護被雕刻區域，使用爆炸範圍剛剛波及到被雕刻表面的方式，從而實現精密雕刻，用鐳射引爆一個個奈米級別的小炸彈，然後用這些小炸彈進行雕刻，以紅外線加熱作為引爆方式（在軍事上的應用，就是在迫擊炮火箭推進尾翼上安裝一個定向接受紅外線鐳射的接收器，用紅外線鐳射告知其什麼時候引爆，專用於對具備一定讓傳統自帶尋敵偵查系統的被攻擊目標進行線上程式設計，而非發射前程式設計，包括透過程式設計控制其啟動變向推進器，從而實現先直線飛行一定距離，然後被程式設計進行特定曲線飛行，從而讓對方無法得知發射位置和方位）。

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