<!--go-->新的理論、新的技術,意味著一切舊的理論和技術都要推倒重來。
原本的晶片,其原材料是以矽為主的矽基晶片。
而光刻機,並不是按字面的意思去理解,用光來雕刻。
鐳射雕刻機?
不是的。
光刻機它其實類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。
而晶片7nm、10nm指的是採用7nm、10nm製程的一種晶片。nm是單位奈米的簡稱。
比如7nm,指的是形成的互補氧化物金屬半導體場效應電晶體柵極的寬度,也被稱為柵長。
柵長最小,技術要求越高,其晶片效能也越好。
光刻機生產積體電路的大概流程,先用模版去除製作矽半導體電路所用的矽晶片的保護膜。
再將矽晶片浸泡在腐化劑中,讓失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。還要用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。
這是傳統的晶片製造工藝。
現在,更小的晶片製造已不是以矽為主,而是石墨烯。
石墨烯晶片作為電流載體,其速度更快,等比縮小更優異。
現在更小更快的晶片,就是以石墨烯晶片為研究方向。
而瑪雨星帝國的低階晶片技術,就是以石墨烯為主的一種新型材料。
金石墨烯!
由此看來,地球對晶片技術的研究方向其實也是對的。從矽基晶片到石墨烯晶片。再未來,是否能到金石墨烯晶片,就不得而知了。
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